ASTM F1188-02
硅中間隙原子氧含量的紅外吸收測試方法
Standard Test Method for Interstitial Atomic Oxygen Content of Silicon by Infrared Absorption with Short Baseline
- 標準號
- ASTM F1188-02 中文首頁
- 發布
- 2002年
- 總頁數
- 9頁
- 發布單位
- 美國材料與試驗協會
- 當前最新
- ASTM F1188-02
- 引用標準
- ASTM E1 ASTM E131 ASTM E932 ASTM F121
- 適用范圍
- 1.1 本試驗方法包括通過測量室溫下的紅外吸收帶來測定單晶硅的間隙氧含量。
該測試方法需要使用無氧參考樣本。
建議使用標準物質（例如 NIST SRM4 2551、5 另一種經過認證的硅氧含量標準物質、7 或可追溯至 CRM 的標準物質）來校準分光光度計，以減少偏差。
1.2 本測試方法需要使用計算機分光光度計，最好是傅立葉變換紅外分光光度計。 許多現代 FT-IR 儀器都采用了這種方法。
1.3 本試驗方法可測量的氧濃度的有用范圍是從1×3×1016原子/cm3到硅中可溶的間隙氧的最大量。
1.4 如果分光光度計使用 2 毫米厚的雙面拋光 CRM 進行校準，則本測試方法僅適用于 2 毫米厚的雙面拋光試樣。 它可以擴展到測量厚度在 0.4 至 4 毫米范圍內的一側或兩側拋光的測試樣本，并使用可追溯至 CRM 的工作參考材料。
1.5 使用本測試方法獲得的氧濃度假定間隙氧濃度與硅中與間隙氧相關的 1107 cm?1 波段的吸收系數之間存在線性關系。
1.6 本標準并不旨在解決與其使用相關的所有安全問題（如果有）。 本標準的使用者有責任在使用前建立適當的安全和健康實踐并確定監管限制的適用性。